Российский научный фонд (РНФ) открывает приём заявок на конкурс проектов в области производства интегральных схем.
Грант выделяется на реализацию проекта в интересах квалифицированного заказчика в 2026–2028 годах. Размер гранта - до 30 млн рублей ежегодно. Обязательно софинансирование со стороны квалифицированного заказчика - не менее 5 % от суммы гранта РНФ.
Конкурс проводится по трём лотам:
- «Разработка системы управления и контроля положения мехатронной системы лазерного литографа».
- «Разработка лазерно‑оптической системы экспонирования с применением динамических масок».
- «Разработка программного обеспечения для расчёта и коррекции изображений и цифровой подготовки производства для лазерных литографических систем с динамической маской».
Приём заявок - до 17:00 (МСК) 27 марта 2026 года. Подведение итогов - до 24 апреля 2026 года.
Подробнее: https://www.rscf.ru/
Грант выделяется на реализацию проекта в интересах квалифицированного заказчика в 2026–2028 годах. Размер гранта - до 30 млн рублей ежегодно. Обязательно софинансирование со стороны квалифицированного заказчика - не менее 5 % от суммы гранта РНФ.
Конкурс проводится по трём лотам:
- «Разработка системы управления и контроля положения мехатронной системы лазерного литографа».
- «Разработка лазерно‑оптической системы экспонирования с применением динамических масок».
- «Разработка программного обеспечения для расчёта и коррекции изображений и цифровой подготовки производства для лазерных литографических систем с динамической маской».
Приём заявок - до 17:00 (МСК) 27 марта 2026 года. Подведение итогов - до 24 апреля 2026 года.
Подробнее: https://www.rscf.ru/
Фото: https://www.rscf.ru/
